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膜层结构

叠层架构:Ti + Al + Ti(三明治结构金属复合膜系)
基底兼容:硅片、光学玻璃、石英、陶瓷、不锈钢、铝合金、碳化硅及各类金属与硬质基底等(支持定制各类衬底)
工艺制程:多靶连续磁控溅射(PVD物理气相沉积)
参数说明:各层膜厚、叠层顺序与表面特性均可按需定制开发

核心优势与综合性能

优异的界面附着力与耐腐蚀性:底层Ti作为粘附与阻挡层,有效增强膜层与各类基底的结合强度,并提升整体抗腐蚀能力
高反射与优异导电导热:Al层提供较好可见光与紫外反射率,同时具备优异的导电与散热性能,适用于光学与电子散热场景
表面防护与耐磨损:顶层Ti作为保护层,有效抑制Al层自然氧化,提升膜层表面硬度与耐磨性能,延长部件使用寿命
膜层致密与低表面粗糙度:采用磁控溅射工艺,膜层致密均匀,表面平整,满足精密光学与工业防护对表面形貌的严格要求

典型应用

1. 光学反射镜与反射器件:利用Al层的高反射特性,用于紫外或可见光波段的光学反射镜、反光罩及导光器件
2. 真空腔室与镀膜设备部件:用于真空设备、刻蚀机等腔室内部的防腐蚀、导电与抗污染部件
3. 电子器件导电与散热结构:用于大功率电子器件的导电互连、散热基板或电磁屏蔽外壳
4. 航空航天与精密仪器防护:利用Ti层的耐腐蚀与耐磨特性,用于恶劣环境下的精密部件表面防护
5. 装饰与耐磨镀层:用于需要金属光泽且耐磨损、抗氧化的工业产品或消费电子外观件
6. 半导体与显示面板制造:作为特定工艺环节中的导电层、反射层或硬掩模辅助层

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