主要特点

一种宽禁带n型半导体材料，薄膜形态下具备极高的折射率（可见光区约2.3~2.7），是构建高折射率光学干涉膜系的核心材料。其禁带宽度约3.0~3.2 eV，在紫外光照射下能产生电子-空穴对，具备优异的光催化活性与超亲水性。同时，该薄膜具有高硬度、优异的耐磨损与耐化学腐蚀性能，与各类基底结合力良好，可根据光学与电学需求定制不同晶型比例

应用范围

1. 光学干涉与滤光片：作为高折射率层，与SiO₂、MgF₂等低折射率材料交替叠加，用于制备窄带滤光片、分光镜及减反射膜等精密光学器件
2. 自清洁与光催化涂层：利用其光催化活性与超亲水性，用于自清洁玻璃、抗菌陶瓷及空气净化器件
3. 光伏与新能源器件：作为钙钛矿太阳能电池或染料敏化电池的电子传输层与多孔支架层
4. 气敏与生物传感器：利用其表面活性与电学特性，用于高灵敏度气体传感器与生物探测器件
5. 半导体高K栅介质：作为高介电常数材料，用于微电子器件的栅极绝缘层
6. 锂离子电池材料：作为电极添加剂或涂层，提升电池的循环稳定性与安全性